CVD SiC Coating Baffle

Vetek Semiconductor's CVD SiC Coating Baffle utamane digunakake ing Si Epitaxy. Biasane digunakake karo tong minyak extension silikon. Iki nggabungake suhu dhuwur lan stabilitas CVD SiC Coating Baffle sing unik, sing ningkatake distribusi seragam aliran udara ing manufaktur semikonduktor. Kita yakin produk kita bisa nggawa sampeyan Teknologi Lanjut lan Solusi Produk Berkualitas Tinggi.

Kirim Pitakonan

Deskripsi Produk

Minangka Produsèn profesional, kita kaya kanggo nyedhiyani sampeyan kualitas dhuwurCVD SiC Coating Baffle.

Liwat proses terus-terusan lan pangembangan inovasi materi,Vetek Semikonduktor'sCVD SiC Coating Bafflenduweni karakteristik unik saka stabilitas suhu dhuwur, resistance karat, atose dhuwur lan resistance nyandhang. Karakteristik unik iki nemtokake manawa CVD SiC Coating Baffle nduweni peran penting ing proses epitaxial, lan peran utamane kalebu aspek ing ngisor iki:

Distribusi seragam saka aliran udara: Desain cerdik saka CVD SiC Coating Baffle bisa entuk distribusi seragam aliran udara sajrone proses epitaksi. Aliran udara sing seragam penting kanggo pertumbuhan seragam lan perbaikan kualitas bahan. Produk kasebut bisa nuntun aliran udara kanthi efektif, ngindhari aliran udara lokal sing berlebihan utawa lemah, lan njamin keseragaman bahan epitaxial.

Ngontrol proses epitaksi: Posisi lan desain CVD SiC Coating Baffle bisa kanthi akurat ngontrol arah aliran lan kacepetan aliran udara sajrone proses epitaksi. Kanthi nyetel tata letak lan wujude, kontrol aliran udara sing tepat bisa digayuh, saéngga ngoptimalake kahanan epitaksi lan ningkatake asil lan kualitas epitaksi.

Ngurangi mundhut materi: Setelan cukup saka CVD SiC Coating Baffle bisa nyuda mundhut materi sak proses epitaxy. Distribusi aliran udara sing seragam bisa nyuda stres termal sing disebabake dening pemanasan sing ora rata, nyuda resiko rusak lan karusakan materi, lan ngluwihi umur layanan bahan epitaxial.

Ningkatake efisiensi epitaksi: Desain CVD SiC Coating Baffle bisa ngoptimalake efisiensi transmisi aliran udara lan ningkatake efisiensi lan stabilitas proses epitaksi. Liwat panggunaan produk iki, fungsi peralatan epitaxial bisa maksimal, efisiensi produksi bisa ditingkatake lan konsumsi energi bisa dikurangi.

Sifat fisik dhasar sakaCVD SiC Coating Baffle：