TaC Coating Chuck

VeTek Semiconductor's TaC Coating Chuck minangka solusi sing cocog kanggo entuk asil sing luar biasa ing proses SiC EPI. Kanthi lapisan TaC, resistensi suhu dhuwur, lan inertness kimia, produk kita menehi daya kanggo ngasilake kristal berkualitas tinggi kanthi presisi lan linuwih. Sugeng rawuh ing pitakonan kita.

TaC (tantalum carbide) minangka bahan sing umum digunakake kanggo nutupi permukaan bagian internal peralatan epitaxial. Wis ciri ing ngisor iki:

Resistensi suhu dhuwur sing apik banget: Lapisan TaC bisa tahan suhu nganti 2200 ° C, saéngga cocog kanggo aplikasi ing lingkungan suhu dhuwur kayata kamar reaksi epitaxial.

Atose dhuwur: Kekerasan TaC tekan udakara 3000-4000 HV, sing luwih angel tinimbang baja tahan karat utawa campuran aluminium sing umum digunakake, sing bisa nyegah nyandhang lumahing kanthi efektif.

Stabilitas kimia sing kuat: Lapisan TaC nindakake kanthi apik ing lingkungan korosif kimia lan bisa ngluwihi umur layanan komponen peralatan epitaxial.

Konduktivitas listrik sing apik: Lapisan TaC nduweni konduktivitas listrik sing apik, sing kondusif kanggo pelepasan elektrostatik lan konduksi panas.

Properti kasebut nggawe lapisan TaC minangka bahan sing cocog kanggo nggawe bagean kritis kayata bushing internal, tembok kamar reaksi, lan unsur pemanas kanggo peralatan epitaxial. Kanthi nutupi komponen kasebut karo TaC, kinerja sakabèhé lan umur layanan saka peralatan epitaxial bisa ditingkatake.

Kanggo epitaksi silikon karbida, potongan lapisan TaC uga bisa dadi peran penting. Lumahing lapisan TaC alus lan kandhel, sing cocog kanggo pambentukan film silikon karbida sing berkualitas tinggi. Ing wektu sing padha, konduktivitas termal banget saka TaC bisa bantuan nambah uniformity saka distribusi suhu nang peralatan, mangkono nambah akurasi kontrol suhu saka proses epitaxial, lan pungkasanipun kagelar nampa kualitas sing luwih dhuwur Silicon carbide wutah lapisan epitaxial.

Parameter produk saka TaC Coating Chunk:

Rantai Industri:

Toko Produksi