Tantalum Carbide Coated Planetary Rotation Disk

VeTek Semiconductor minangka produsen Tantalum Carbide Coated Planetary Rotation Disk terkemuka lan inovator ing China.We wis khusus ing lapisan keramik kanggo pirang-pirang taun.Produk kita duwe kemurnian dhuwur lan tahan suhu dhuwur.We looking forward kanggo dadi partner long-term ing Cina.

Kirim Pitakonan

Deskripsi Produk

Kualitas tinggi Tantalum Carbide Coated Planetary Rotation Disk ditawakake pabrikan China VeTek Semiconductor. tukuTantalum Carbide CoatedPlanetary Rotation Disk kang kualitas dhuwur langsung karo rega murah.

Disk rotasi planet sing dilapisi tantalum karbida minangka aksesori sing dirancang kanggo sistem AIXTRON G10 MOCVD, kanthi tujuan kanggo ningkatake efisiensi lan kualitas ing manufaktur semikonduktor. Digawe saka bahan bermutu tinggi lan diprodhuksi kanthi presisi, piringan rotasi planet sing dilapisi tantalum karbida nawakake kinerja lan keandalan sing luar biasa kanggoDeposisi Uap Kimia Logam-Organik (MOCVD) pangolahan.

Planetary Disk dibangun kanthi nggunakake substrat grafit sing dilapisiCVD TaC, nyediakake stabilitas termal banget, kemurnian dhuwur, lan resistance kanggo suhu dhuwur.

Customizable kanggo nampung macem-macem ukuran wafer semikonduktor, Planetary Disk cocok kanggo macem-macem syarat produksi. Konstruksi sing kuat dirancang khusus kanggo nahan kahanan operasi sistem MOCVD sing nuntut, njamin kinerja sing tahan suwe lan nyuda biaya downtime lan pangopènan sing ana gandhengane karo operator wafer lan susceptor.

Kanthi Planetary Disk, ingSistem AIXTRON G10 MOCVDbisa entuk efisiensi sing luwih dhuwur lan asil sing unggul ing manufaktur semikonduktor. Stabilitas termal sing luar biasa, kompatibilitas karo ukuran wafer sing beda-beda, lan kinerja sing dipercaya ndadekake alat penting kanggo ngoptimalake efisiensi produksi lan entuk asil sing luar biasa ing lingkungan MOCVD sing tantangan.

Parameter produk saka Tantalum Carbide Coated Planetary Rotation Disk:

Sifat fisik lapisan TaC
Kapadhetan	14,3 (g/cm³)
Emisivitas spesifik	0.3
Koefisien ekspansi termal	6.3*10^-6/K
Kekerasan (HK)	2000 HK
Resistance	1×10^-5Om *cm
Stabilitas termal	<2500 ℃
owah-owahan ukuran grafit	-10~-20um
Ketebalan lapisan	≥20um nilai khas (35um±10um)