SiC Coating Susceptor

Vetek Semiconductor fokus ing riset lan pangembangan lan industrialisasi lapisan CVD SiC lan lapisan CVD TaC. Njupuk susceptor lapisan SiC minangka conto, produk kasebut diproses kanthi presisi dhuwur, lapisan CVD SIC sing padhet, tahan suhu dhuwur lan tahan karat sing kuwat. Enquiry menyang kita olèh.

Kirim Pitakonan

Deskripsi Produk

Sampeyan bisa yakin tuku susceptor lapisan SiC saka pabrik kita.

Minangka Produsèn lapisan CVD SiC, VeTek Semiconductor kaya kanggo nyedhiyani sampeyan SiC Coating Susceptors kang digawe saka grafit kemurnian dhuwur lan SiC coating susceptor (ing ngisor 5ppm). Welcome to inquiry us.

Ing Vetek Semiconductor, kita spesialis ing riset teknologi, pangembangan, lan manufaktur, nawakake macem-macem produk canggih kanggo industri. Lini produk utama kita kalebu lapisan CVD SiC + grafit kemurnian dhuwur, susceptor lapisan SiC, kuarsa semikonduktor, lapisan CVD TaC + grafit kemurnian dhuwur, felt kaku, lan bahan liyane.

Salah sawijining produk unggulan yaiku SiC Coating Susceptor, dikembangake kanthi teknologi inovatif kanggo nyukupi syarat ketat produksi wafer epitaxial. Wafer epitaxial kudu nuduhake distribusi dawa gelombang sing nyenyet lan tingkat cacat permukaan sing sithik, nggawe susceptor lapisan SiC minangka komponen penting kanggo nggayuh parameter penting kasebut.

Keuntungan saka SiC Coating Susceptor:

Perlindhungan Bahan Dasar: Lapisan CVD SiC tumindak minangka lapisan protèktif sajrone proses epitaxial, kanthi efektif nglindhungi bahan dasar saka erosi lan karusakan sing disebabake dening lingkungan njaba. Ukuran protèktif iki ngluwihi umur layanan peralatan kasebut.

Konduktivitas Termal sing Apik banget: Lapisan CVD SiC kita nduweni konduktivitas termal sing luar biasa, kanthi efisien nransfer panas saka bahan dasar menyang permukaan lapisan. Iki nambah efisiensi manajemen termal sajrone epitaksi, njamin suhu operasi sing optimal kanggo peralatan kasebut.

Kualitas Film sing Apik: Lapisan CVD SiC nyedhiyakake permukaan sing rata lan seragam, nggawe dhasar sing cocog kanggo pertumbuhan film. Iku nyuda cacat asil saka kisi mismatch, nambah crystallinity lan kualitas film epitaxial, lan pungkasanipun mbenakake kinerja lan linuwih.

Pilih SiC Coating Susceptor kanggo kabutuhan produksi wafer epitaxial, lan entuk manfaat saka perlindungan sing luwih apik, konduktivitas termal sing unggul, lan kualitas film sing luwih apik. Percaya karo solusi inovatif VeTek Semiconductor kanggo nyurung sukses sampeyan ing industri semikonduktor.

Sifat fisik dhasar saka lapisan CVD SiC:

Sifat fisik dhasar saka lapisan CVD SiC
Properti	Nilai Khas
Struktur Kristal	FCC β fase polikristalin, utamané (111) oriented
Kapadhetan	3,21 g/cm³
Kekerasan	Kekerasan 2500 Vickers (beban 500g)
Ukuran Gandum	2~10μm
Kemurnian Kimia	99.99995%
Kapasitas panas	640 J·kg-1·K-1
Suhu Sublimasi	2700 ℃
Kekuatan lentur	415 MPa RT 4-titik
Modulus Young	430 Gpa 4pt tikungan, 1300 ℃
Konduktivitas termal	300W·m-1·K-1
Thermal Expansion (CTE)	4.5×10-6K-1