ALD panrima

VeTek Semiconductor minangka produsen profesional ALD Susceptor, lapisan CVD SiC, basis grafit COATING CVD TAC ing China. Vetek Semiconductor bebarengan ngembangake lan ngasilake basis planet ALD sing dilapisi SiC karo produsen sistem ALD kanggo nyukupi syarat proses ALD sing dhuwur lan nyebarake aliran udara ing substrate. We look nerusake kanggo kerjasama luwih karo sampeyan.

Kirim Pitakonan

Deskripsi Produk

Minangka profesionalReseptor ALDpabrikan ing China, produk kitaReseptor ALDKontrol suhu sing tepat, distribusi gas seragam lan konduktivitas termal sing apik lan karakteristik produk liyane sing nemtokakeReseptor ALDnduweni peran wigati ing proses deposisi lapisan atom (ALD). Peran penting, welcome konsultasi sampeyan.

Deposisi film tipis sing seragam: ALD Susceptor njamin deposisi seragam lapisan atom ing kabeh permukaan wafer sajrone proses deposisi lapisan atom (ALD). Desain puteran sing unik ngidini gas lan reaktan bisa ngubungi permukaan wafer kanthi rata, nyebabake ketebalan film sing seragam. Iki penting kanggo manufaktur semikonduktor kanthi tliti dhuwur.

Ngapikake kualitas deposisi: Kanthi ngoptimalake kontrol suhu lan distribusi gas, ALD Susceptor Ngartekno nambah kualitas film lan kinerja, ngurangi cacat lan non-uniformity. Iki ndadekake iku becik kanggo semikonduktor tliti dhuwur lan manufaktur piranti elektronik, mesthekake linuwih produk lan kinerja.

Ndhukung pangolahan multi-wafer: Desain ALD Susceptor tartamtu ngidini macem-macem wafer diproses bebarengan, nambah efisiensi produksi. Iki penting banget kanggo lingkungan manufaktur kanthi dhuwur, sing bisa nyukupi kabutuhan produksi skala gedhe.

Nampung macem-macem ukuran lan jinis wafer: ALD Susceptors umume dirancang kanggo kompatibilitas dhuwur lan bisa ndhukung macem-macem ukuran lan jinis wafer. Iki ndadekake efektif ing macem-macem proses produksi, nyedhiyakake keluwesan lan adaptasi sing luwih gedhe.

Ngurangi biaya produksi: Amarga distribusi gas sing efisien lan kapabilitas pemanasan seragam, ALD Susceptor nambah efisiensi proses deposisi, saéngga nyuda biaya bahan lan biaya produksi. Iki ora mung mbantu ningkatake efisiensi produksi nanging uga nyuda biaya produksi.

Sifat fisik dhasar saka lapisan CVD SiC: