Ngarep > Produk > Lapisan Silicon Carbide > Solid Silicon Carbide Kab > Ring Fokus Etching Solid SiC
Ring Fokus Etching Solid SiC
  • Ring Fokus Etching Solid SiCRing Fokus Etching Solid SiC
  • Ring Fokus Etching Solid SiCRing Fokus Etching Solid SiC
  • Ring Fokus Etching Solid SiCRing Fokus Etching Solid SiC

Ring Fokus Etching Solid SiC

VeTek Semiconductor minangka produsen Solid SiC Etching Focusing Ring lan inovator ing China.We wis spesialisasi ing materi SiC nganti pirang-pirang taun.Solid SiC dipilih minangka bahan cincin fokus amarga stabilitas termokimia sing apik, kekuatan mekanik sing dhuwur lan tahan kanggo plasma. erosion.We looking nerusake kanggo dadi partner long-term ing China.

Kirim Pitakonan

Deskripsi Produk

Sampeyan bisa yakin kanggo tuku Solid SiC Etching Focusing Ring saka pabrik kita. Teknologi revolusioner VeTek Semiconductor mbisakake produksi Solid SiC Etching Focusing Ring, bahan silikon karbida kemurnian ultra-tinggi sing digawe liwat proses Deposisi Uap Kimia.

Ring fokus etching SiC solid digunakake ing proses manufaktur semikonduktor, utamane ing sistem etsa plasma. Cincin fokus etsa SiC sing padhet minangka komponen penting sing mbantu entuk etsa wafer silikon karbida (SiC) sing akurat lan dikontrol.


Sajrone proses etsa plasma, dering fokus nduweni sawetara peran:

1. Fokus plasma: Dering fokus etching SiC sing padhet mbantu mbentuk lan konsentrasi plasma ing saubengé wafer, supaya proses etsa dumadi kanthi seragam lan efisien. Mbantu mbatesi plasma menyang wilayah sing dikarepake, nyegah etsa utawa karusakan ing wilayah sekitar.

2. Nglindhungi tembok kamar: Ring fokus tumindak minangka alangi antarane plasma lan tembok kamar, nyegah kontak langsung lan karusakan potensial. SiC tahan banget kanggo erosi plasma lan menehi perlindungan sing apik kanggo tembok kamar.

3.Kontrol suhu: Ring fokus mbantu njaga distribusi suhu seragam ing wafer sajrone proses etsa. Iku mbantu ngilangi panas lan nyegah overheating lokal utawa gradien termal sing bisa mengaruhi asil etsa.

Solid SiC dipilih kanggo fokus ring amarga stabilitas termal lan kimia sing luar biasa, kekuatan mekanik sing dhuwur, lan tahan kanggo erosi plasma. Properti kasebut nggawe SiC minangka bahan sing cocog kanggo kahanan sing angel lan nuntut ing sistem etsa plasma.

Wigati dicathet yen desain lan spesifikasi cincin fokus bisa beda-beda gumantung saka sistem etsa plasma lan syarat proses tartamtu. VeTek Semiconductor ngoptimalake wangun, dimensi, lan karakteristik lumahing fokus rings kanggo mesthekake kinerja etching optimal lan umur dawa.Solid SiC digunakake digunakake kanggo operator wafer, susceptors, dummy wafer, guide rings, bagean kanggo proses etsa, proses CVD, etc.


Parameter produk saka SiC Etching Focusing Ring padat

Sifat fisik saka Solid SiC
Kapadhetan 3.21 g/cm3
Resistivitas Listrik 102 Ω/cm
Kekuatan lentur 590 MPa (6000kgf/cm2)
Modulus Young 450 GPa (6000kgf/mm2)
Kekerasan Vickers 26 GPa (2650kgf/mm2)
C.T.E.(RT-1000 ℃) 4.0 x10-6/K
Konduktivitas termal (RT) 250 W/mK


VeTek Semiconductor Production Shop


Hot Tags: Cincin Fokus Etching Solid SiC, China, Produsen, Supplier, Pabrik, Disesuaikan, Tuku, Lanjut, Awet, Digawe ing China
Kategori sing gegandhengan
Kirim Pitakonan
Mangga bebas menehi pitakon ing formulir ing ngisor iki. Kita bakal mangsuli sampeyan ing 24 jam.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept