> Kabar

Kabar

Pabrikan Chip: Atomic Layer Deposition (ALD)

Ing industri manufaktur semikonduktor, amarga ukuran piranti terus nyusut, teknologi deposisi bahan film tipis wis nyebabake tantangan sing durung ana sadurunge. Atomic Layer Deposition (ALD), minangka teknologi deposisi film tipis sing bisa entuk kontrol sing tepat ing tingkat atom, wis dadi bagean......

Waca liyane

Apa proses epitaksi semikonduktor?

Iku becik kanggo mbangun sirkuit terpadu utawa piranti semikonduktor ing lapisan basa kristal sampurna. Proses epitaksi (epi) ing manufaktur semikonduktor nduweni tujuan kanggo nyimpen lapisan kristal tunggal sing apik, biasane kira-kira 0,5 nganti 20 mikron, ing substrat kristal tunggal. Proses epi......

Waca liyane

Apa bedane epitaksi lan ALD?

Bentenipun utama antarane epitaxy lan atomic layer deposition (ALD) dumunung ing mekanisme wutah film lan kahanan operasi. Epitaxy nuduhake proses ngembangake film tipis kristal ing substrat kristal kanthi hubungan orientasi tartamtu, njaga struktur kristal sing padha utawa padha. Ing kontras, ALD m......

Waca liyane

Apa CVD TAC Coating?

Lapisan TAC CVD minangka proses kanggo mbentuk lapisan sing padhet lan awet ing substrat (grafit). Cara iki kalebu nyetop TaC ing permukaan substrat kanthi suhu sing dhuwur, nyebabake lapisan tantalum karbida (TaC) kanthi stabilitas termal lan tahan kimia sing apik.

Waca liyane

Gulung munggah! Rong pabrikan utama bakal ngasilake karbida silikon 8 inci kanthi massal

Nalika proses silikon karbida (SiC) 8-inci diwasa, pabrikan nyepetake owah-owahan saka 6 inci dadi 8 inci. Bubar, ON Semiconductor lan Resonac ngumumake nganyari babagan produksi SiC 8 inci.

Waca liyane

Kemajuan teknologi epitaxial 200mm SiC LPE Italia

Artikel iki ngenalake perkembangan paling anyar ing reaktor CVD tembok panas PE1O8 sing mentas dirancang saka perusahaan Italia LPE lan kemampuan kanggo nindakake epitaksi 4H-SiC seragam ing 200mm SiC.

Waca liyane

<...5 6 7 8 9...10 >