Apa Tantalum Carbide Coating?

Bahan keramik Tantalum carbide (TaC) nduweni titik lebur nganti 3880 ℃ lan minangka senyawa kanthi titik lebur dhuwur lan stabilitas kimia sing apik. Bisa njaga kinerja stabil ing lingkungan suhu dhuwur. Kajaba iku, uga nduweni resistensi suhu dhuwur, tahan korosi kimia, lan kompatibilitas kimia lan mekanik sing apik karo bahan karbon, dadi bahan lapisan pelindung grafit sing cocog. 

Lapisan karbida Tantalum kanthi efektif bisa nglindhungi komponen grafit saka efek amonia panas, hidrogen, uap silikon, lan logam molten ing lingkungan panggunaan sing atos, kanthi signifikan ngluwihi umur layanan komponen grafit lan nyuda migrasi impurities ing grafit, njamin kualitas grafit.epitaxiallanwutah kristal.

Gambar 1. Komponen Umum Tantalum Carbide Coated

Deposisi uap kimia (CVD) minangka cara sing paling diwasa lan optimal kanggo ngasilake lapisan TaC ing permukaan grafit.

Nggunakake TaCl5 lan Propylene minangka sumber karbon lan tantalum masing-masing, lan argon minangka gas pembawa, uap TaCl5 sing nguap suhu dhuwur dilebokake menyang kamar reaksi. Ing suhu lan tekanan target, uap bahan prekursor adsorbs ing permukaan grafit, ngalami reaksi kimia kompleks kayata dekomposisi lan kombinasi sumber karbon lan tantalum, uga sawetara reaksi permukaan kayata difusi lan desorpsi. produk sampingan saka prekursor. Pungkasan, lapisan protèktif sing padhet dibentuk ing permukaan grafit, sing nglindhungi grafit saka orane stabil ing kahanan lingkungan sing ekstrem lan sacara signifikan ngembangake skenario aplikasi bahan grafit.

Gambar 2.Prinsip proses deposisi uap kimia (CVD).

VeTek Semikonduktorutamane nyedhiyakake produk tantalum carbide: TaC guide ring, TaC coated three petal ring, TaC coating crucible, TaC coating porous grafit sing akeh digunakake yaiku proses pertumbuhan kristal SiC; Graphite keropos karo TaC Coated, TaC Coated Guide Ring, TaC Coated Graphite Wafer Carrier, TaC coating susceptor, planetary susceptor, TaC coated satellite susceptor, Lan produk lapisan tantalum carbide iki akeh digunakake ingProses epitaksi SiClanProses Pertumbuhan Kristal Tunggal SiC.

Gambar 3.VeTek Produk Lapisan Tantalum Carbide Paling Populer Semikonduktor